1. Chalcogenide coatings of Ge15Sb20S65 and Te20As30Se50
- Author
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Frédéric Charpentier, Jean-Luc Adam, Claude Amra, Hervé Lhermite, Miloslav Frumar, Jérémie Capoulade, Fabien Grasset, Weidong Shen, S. Inoue, Virginie Nazabal, Petr Nemec, Alain Moréac, Michel Cathelinaud, Michel Lequime, Marie-Laure Anne, Institut des Sciences Chimiques de Rennes (ISCR), Université de Rennes (UR)-Institut National des Sciences Appliquées - Rennes (INSA Rennes), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Ecole Nationale Supérieure de Chimie de Rennes (ENSCR)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Institut FRESNEL (FRESNEL), Aix Marseille Université (AMU)-École Centrale de Marseille (ECM)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Department of Graphic Arts and Photophysics [University of Pardubice], Faculty of Chemical Technology [University of Pardubice], University of Pardubice-University of Pardubice, Institut d'Électronique et des Technologies du numéRique (IETR), Université de Nantes (UN)-Université de Rennes (UR)-Institut National des Sciences Appliquées - Rennes (INSA Rennes), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-CentraleSupélec-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Groupe matière condensée et matériaux (GMCM), Université de Rennes (UR)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), National Institute for Materials Science (NIMS), Université de Rennes 1 (UR1), Université de Rennes (UNIV-RENNES)-Université de Rennes (UNIV-RENNES)-Institut National des Sciences Appliquées - Rennes (INSA Rennes), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Université de Rennes (UNIV-RENNES)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Ecole Nationale Supérieure de Chimie de Rennes (ENSCR)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-École Centrale de Marseille (ECM)-Aix Marseille Université (AMU), Université de Nantes (UN)-Université de Rennes 1 (UR1), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Université de Rennes (UNIV-RENNES)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-CentraleSupélec-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université de Rennes 1 (UR1), Université de Rennes (UNIV-RENNES)-Université de Rennes (UNIV-RENNES), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Université de Rennes 1 (UR1), Université de Rennes (UNIV-RENNES)-Université de Rennes (UNIV-RENNES)-Ecole Nationale Supérieure de Chimie de Rennes (ENSCR)-Institut National des Sciences Appliquées - Rennes (INSA Rennes), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Université de Rennes (UNIV-RENNES)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA), and Nantes Université (NU)-Université de Rennes 1 (UR1)
- Subjects
Materials science ,Chalcogenide ,Scanning electron microscope ,Materials Science (miscellaneous) ,Energy-dispersive X-ray spectroscopy ,Chalcogenide glass ,Physics::Optics ,02 engineering and technology ,01 natural sciences ,Industrial and Manufacturing Engineering ,010309 optics ,chemistry.chemical_compound ,Optics ,0103 physical sciences ,Deposition (phase transition) ,Business and International Management ,Thin film ,[SPI.NANO]Engineering Sciences [physics]/Micro and nanotechnologies/Microelectronics ,business.industry ,[CHIM.MATE]Chemical Sciences/Material chemistry ,021001 nanoscience & nanotechnology ,Wavelength ,chemistry ,Dry etching ,0210 nano-technology ,business - Abstract
International audience; Chalcogenide coatings are investigated to obtain either optical components for spectral applications or optochemical sensors in the mid-infrared. The deposition of Ge15Sb20S65 and Te20As30Se50 chalcogenide glasses is performed by two physical techniques: electron-beam and pulsed-laser deposition. The quality of the film is analyzed by scanning electron microscopy, atomic force microscopy, and energy dispersive spectroscopy to characterize the morphology, topography, and chemical composition. The optical properties and optical constants are also determined. A CF4 dry etching is performed on these films to obtain a channeled optical waveguide. For a passband filter made by electron-beam deposition, cryolite as a low-refractive-index material and chalcogenide glasses as high-refractive-index materials are used to favor a large refractive-index contrast. A shift of a centered wavelength of a photosensitive passband filter is controlled by illumination time.
- Published
- 2008