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The development of the micro / nano electronic field is based on the constant reduction of the critical dimensions. This constant change in scale will lead to severe physical (quantum perturbation ...) and technological issues (resolution treshold of industrial fabrication processes). One of the most promissing alternative to overcome these problems is the global integration of nanometric objects in electronic devices. In this framework, we have developed several nanofabrication processes based on the use of a global, high resolution technique : the nanoimprint lithography. Manipulation and localisation of gold colloids have been performed using dielectrophoresis and several devices at the single particle level have been obtained. Electrical tests on these fabricated structures showed Coulomb blockage and staircases at low-temperature., Le développement actuel de la micro/nanoélectronique est basé sur une constante réduction des dimensions caractéristiques des structures fabriquées. Ce constant changement d'échelle va être confronté à terme à de nombreux obstacles à la fois physiques (courant de fuite important, effet quantique perturbateur ...) et technologiques (limite de résolution des procédés de fabrication industriels). Pour paliers à ces différents freins, une alternative prometteuse est l'intégration collective d'objets nanométriques dans des architectures électroniques. Dans ce contexte, nous avons tout d'abord développé différents procédés de fabrication collective de structures d'adressage par une technologie alternative haute résolution : la nanoimpression. Ensuite, la manipulation de nano-objets colloïdaux par diélectrophorèse a été étudiée dans le but d'obtenir la localisation d'une unique particule entre deux électrodes métalliques. Les structures ainsi obtenues ont été caractérisées électriquement et ont permis l'observation de blocage et de paliers de Coulomb à basse température.