Search

Šiame darbe pristatoma magnetroninis dangų nusodinimo sluoksnis po sluoksnio būdas ant stiklo ir silicio pagrindo. Suformuotos nikelio titanato dangos ištirtos rentgeno spektrometru ultravioletinės ir regimosios šviesos spektrometru bei keturių zondų metodu. Rentgeno difrakcinė analizė parodė, kad plonasluoksnės nikelio titanato dangos turi NiO, TiO2 rutilo, anatazo ir NiTiO3 fazes. Žemiausia temperatūra kurioje susiformuoja nikelio titanatas yra 600 °C., Nickel titanate is a n-type semiconductor, antiferromagnetic and he has of particular interest due to their versatile electrical and magnetic properties, such as their antiferromagnetic behavior and have good optical and electrical properties. The paper presents forming copper oxide films magnetron sputtering coating layer-by-layer method on glass and silicon substrate. Formed Nickel titanate films investigated X-ray difraction spectroscopy, ultraviolet and visible light spectrometer, the four-probe method. X-ray diffraction showed that thin films, deposited on silicon substrate show NiO, TiO2 rutile, anatase and NiTiO3 rhombohedral phases. Lowest temperature formed NiTiO3 is 600 oC.