1. Оптоэлектронные свойства в гидрогенизированных тонких пленках a-Si1−xGex:H (x = 0−1), полученных плазмохимическим осаждением
- Author
-
B.A. Najafov and V.V. Dadashova
- Subjects
plasma chemical deposition ,плазмохимическое осаждение ,Carbon film ,Materials science ,Chemical engineering ,фотопроводимость ,Chemical deposition ,General Physics and Astronomy ,photoconductivity ,thin hydrogenated films ,Plasma ,Combustion chemical vapor deposition ,гидрогенизированные тонкие пленки - Abstract
Possibilities of plasma chemical deposition ofa-Si1−xGex:H (x = 0÷1) films undoped and doped with PH3 or B2H6 have been analyzed from the viewpoint of their application in p–i–n structures of solar cells. The optical, electric, and photo-electric properties are considered, and the amount of hydrogen contained in those films is determined. The film properties are found to strongly depend on the film composition and the hydrogenation level. The number of hydrogen atoms in the films is varied by changing the gas mixture composition, and IR absorption in a-Si:H and a-Ge:H films is measured. The photoconductivity is calculated using the formula Jph =AF^y withy = 1. The hydrogen concentration NH in the films is characterized by the preferable additional parameterP and was determined with the use of the vibrational stretching and wegging modes for thea-Si1−xGex:H (x = 0÷1) films. The a-Si:H and a-Si0.88Ge0.12:H films were used to fabricate three-layer solar cells with an element area of 1.3 cm2 and an efficiency of 9.5%., Проанализированы возможности применения технологии плазмохимического осаждения пленок a-Si1−xGex:H (x = 0−1), нелегированных и легированных PH3 и B2H6, для использования их в p–i–n-структурах солнечных элементов. Рассмотрены оптические, электрические, фотоэлектрические свойства, также определено количество водорода, содержащегося в данной пленке. Найдено, что свойства пленки сильно зависят от состава и уровня гидрогенизации. Количество атомов водорода в пленках варьировали путем изменения составов газовой смеси, и измеряли ИК поглощение для пленок a-Si:H и a-Ge:H. Фотопроводимость рассчитывалась по соотношению: Jф =AF^y приy = 1. Концентрация водорода в пленках определялась предпочтительным дополнительным параметром – Р. В то же время NH определялось с помощью колебательной моды растяжения и моды качения для пленок a-Si1−xGex:H (x = 0−1). На основе пленок a-Si:H и a-Si0,88Ge0,12:H изготовлены трехслойные солнечные элементы с площадью элемента 1,3 см2 и эффективностью (E) 9,5%.
- Published
- 2018
- Full Text
- View/download PDF