TECHNOLOGIES POUR SOURCES LASER A SEMICONDUCTEURS III-V

Authors :: Bouchoule, Sophie
Laboratoire de photonique et de nanostructures (LPN)
Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Centre de Nanosciences et de Nanotechnologies [Marcoussis] (C2N)
Université Paris-Sud - Paris 11 (UP11)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Université ParisSud XI
Prof. Abdallah Ougazzaden
Source :: Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université ParisSud XI, 2018
Publication Year :: 2018
Publisher :: HAL CCSD, 2018.

Subjects :: lasers et micro-émetteurs à semiconducteurs III-V
[SPI.PLASMA]Engineering Sciences [physics]/Plasmas
[SPI.OPTI]Engineering Sciences [physics]/Optics / Photonic
III-V semiconductors lasers and micro-emitters
composants photoniques
[SPI.NANO]Engineering Sciences [physics]/Micro and nanotechnologies/Microelectronics
[PHYS.COND]Physics [physics]/Condensed Matter [cond-mat]
micro-nanotechnologies
plasma etching of III-V materials
photonic devices
physico-chimie de la gravure par plasma des matériaux III-V

Language :: French
Database :: OpenAIRE
Journal :: Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université ParisSud XI, 2018
Accession number :: edsair.dedup.wf.001..897c909b69646660612dff1c003d392c

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