Procédé de fabrication d’une couche d’arrêt de gravure pour nanolithographie par autoassemblage dirigé

Authors :: Chevalier, X.
Zelsmann, M.
Pound-Lana, G.
Bezard, P.
Serege, M.
Clot, Marielle
Arkema (Arkema)
Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM )
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Grenoble Alpes (UGA)
Source :: France, Patent n° : FR3105755. 2019
Publication Year :: 2019
Publisher :: HAL CCSD, 2019.

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