TEM analysis of ion plated HfO2/SiO2 multilayers for femtosecond lasers

Authors :: Flury, Manuel
Patriache, Gilles
Troadec, David
Parriaux, Olivier
Laboratoire Hubert Curien [Saint Etienne] (LHC)
Institut d'Optique Graduate School (IOGS)-Université Jean Monnet [Saint-Étienne] (UJM)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Laboratoire de photonique et de nanostructures (LPN)
Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 (IEMN)
Centrale Lille-Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN)-Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (UVHC)-Université de Lille-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Polytechnique Hauts-de-France (UPHF)
Laboratoire Hubert Curien (LHC)
Institut d'Optique Graduate School (IOGS)-Université Jean Monnet - Saint-Étienne (UJM)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Source :: 7th Symposium SiO2, advanced dielectrics and related devices, 7th Symposium SiO2, advanced dielectrics and related devices, Jul 2008, France. p, 7th Symposium SiO2, advanced dielectrics and related devices, Jul 2008, Saint-Etienne, France
Publication Year :: 2008
Publisher :: HAL CCSD, 2008.

Language :: English
Database :: OpenAIRE
Journal :: 7th Symposium SiO2, advanced dielectrics and related devices, 7th Symposium SiO2, advanced dielectrics and related devices, Jul 2008, France. p, 7th Symposium SiO2, advanced dielectrics and related devices, Jul 2008, Saint-Etienne, France
Accession number :: edsair.dedup.wf.001..df7a5af448afad4a4a76634ba415e4a9