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Development of All-Around SiO2/Al2O3 Gate, Suspended Silicon Nanowire Chemical Field Effect Transistors Si-nw-ChemFET

Authors :
Aurélie Lecestre
Pierre Temple-Boyer
Laurent Mazenq
Auriane Grappin
Jérôme Launay
Ahmet Lale
David Bourrier
Équipe MICrosystèmes d'Analyse (LAAS-MICA)
Laboratoire d'analyse et d'architecture des systèmes (LAAS)
Université Toulouse Capitole (UT Capitole)
Université de Toulouse (UT)-Université de Toulouse (UT)-Institut National des Sciences Appliquées - Toulouse (INSA Toulouse)
Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Université de Toulouse (UT)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Université Toulouse - Jean Jaurès (UT2J)
Université de Toulouse (UT)-Université Toulouse III - Paul Sabatier (UT3)
Université de Toulouse (UT)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut National Polytechnique (Toulouse) (Toulouse INP)
Université de Toulouse (UT)-Université Toulouse Capitole (UT Capitole)
Université de Toulouse (UT)
Service Techniques et Équipements Appliqués à la Microélectronique (LAAS-TEAM)
Université Toulouse - Jean Jaurès (UT2J)-Université Toulouse 1 Capitole (UT1)
Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Toulouse III - Paul Sabatier (UT3)
Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Institut National des Sciences Appliquées - Toulouse (INSA Toulouse)
Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Institut National Polytechnique (Toulouse) (Toulouse INP)
Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Université Toulouse - Jean Jaurès (UT2J)-Université Toulouse 1 Capitole (UT1)
Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées
Source :
Proceedings, Vol 1, Iss 4, p 419 (2017), EUROSENSORS XXXI, EUROSENSORS XXXI, Sep 2017, Paris, France
Publication Year :
2017
Publisher :
MDPI, 2017.

Abstract

International audience; We present a sensor platform associated to silicon-nanowire chemical field effect transistors (Si-nw-ChemFET). Innovations concern the use of networks of suspended silicon N + /P/N + nanowires as conducting channel, the realization by thermal oxidation and Atomic-Layer Deposition (ALD) of a SiO2/Al2O3 gate insulator all-around the silicon nanowires, and their final integration into covered SU8-based microfluidic channels. The Si-nw-MOSFET/ChemFET fabrication process and electrical/electrochemical characterizations are presented. The fabrication process did not need an expensive and time-consuming e-beam lithography, but only fast and " low cost " standard photolithography protocols. Such microdevice will provide new opportunities for biochemical analysis at the micro/nanoscale.

Details

Database :
OpenAIRE
Journal :
Proceedings of Eurosensors 2017, Paris, France, 3–6 September 2017
Accession number :
edsair.doi.dedup.....9205ac5e546f7fc000096f3193285012