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Development of a Reference Wafer for On-Wafer Testing of Extreme Impedance Devices

Authors :
I. Roch-Jeune
Chong Li
Haris Votsi
Peter H. Aaen
Kamel Haddadi
Nick M. Ridler
Gilles Dambrine
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 (IEMN)
Centrale Lille-Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN)-Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (UVHC)-Université de Lille-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Polytechnique Hauts-de-France (UPHF)
Centrale de Micro Nano Fabrication - IEMN (CMNF-IEMN)
Centrale Lille-Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN)-Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (UVHC)-Université de Lille-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Polytechnique Hauts-de-France (UPHF)-Centrale Lille-Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN)-Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (UVHC)-Université de Lille-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Polytechnique Hauts-de-France (UPHF)
Circuits Systèmes Applications des Micro-ondes - IEMN (CSAM - IEMN)
Centrale Lille-Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN)-Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (UVHC)-Université de Lille-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Polytechnique Hauts-de-France (UPHF)-Centrale Lille-Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN)-Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (UVHC)-Université de Lille-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Polytechnique Hauts-de-France (UPHF)-Institut TELECOM/TELECOM Lille1
Institut Mines-Télécom [Paris] (IMT)-Institut Mines-Télécom [Paris] (IMT)
Advanced NanOmeter DEvices - IEMN (ANODE - IEMN)
Renatech Network
ANR-11-EQPX-0015,Excelsior,Centre expérimental pour l'étude des propriétés des nanodispositifs dans un large spectre du DC au moyen Infra-rouge.(2011)
Centrale de Micro Nano Fabrication - IEMN (CMNF - IEMN)
Source :
88th ARFTG Microwave Measurement Symposium, ARFTG 2016, 88th ARFTG Microwave Measurement Symposium, ARFTG 2016, Dec 2016, Austin, United States. 4 p., ⟨10.1109/ARFTG.2016.7839719⟩
Publication Year :
2017

Abstract

International audience; This paper describes the design, fabrication, and testing of an on-wafer substrate that has been developed specifically for measuring extreme impedance devices using an on-wafer probe station. Such devices include carbon nano-tubes (CNTs) and structures based on graphene which possess impedances in the k Omega range and are generally realised on the nano-scale rather than the micro-scale that is used for conventional onwafer measurement. These impedances are far removed from the conventional 50-Omega reference impedance of the test equipment. The on-wafer substrate includes methods for transforming from the micro-scale towards the nano-scale and reference standards to enable calibrations for extreme impedance devices. The paper includes typical results obtained from the designed wafer.

Details

Language :
English
ISBN :
978-1-5090-4515-0
ISBNs :
9781509045150
Database :
OpenAIRE
Journal :
88th ARFTG Microwave Measurement Symposium, ARFTG 2016, 88th ARFTG Microwave Measurement Symposium, ARFTG 2016, Dec 2016, Austin, United States. 4 p., ⟨10.1109/ARFTG.2016.7839719⟩
Accession number :
edsair.doi.dedup.....b9627cf49c0ca6de15907d69d6e34405
Full Text :
https://doi.org/10.1109/ARFTG.2016.7839719⟩