Процессы прохождения пучков заряженных частиц в материальных средах

В связи с ограничениями оптической литографии, связанными с явлением дифракции, сравнительно недавно появилась технология нового поколения – ионная литография, в которой применяется прямое экспонирование сфокусированным пучком заряженных частиц. Определенный интерес в разработке таких литографических технологий высокого разрешения связан с возможностью преодоления трудностей при создании структур с размерами ниже 100 нм. При цитировании документа, используйте ссылку http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/27619