Структура и свойства пленок оксида циркония, легированных оксидом иттрия, полученных методом лазерного осаждения в вакууме

Проведены исследования тонких пленок, осажденных в вакууме (2*10-2 мм рт. ст.) на кремниевую и стеклянную подложки при многоимпульсном высокочастотном (10-15 кГц) лазерном воздействии (плотность мощности лазерного излучения 100 МВт/см2 и расстояние от мишени до подложки 40 мм), на керамику из оксида циркония ZrO2, легированную оксидом иттрия 5 % Y2O3. The thin films deposited in vacuum (2*10-2 mm Hg) on the silicon and glass substrates under the multi-pulse high-frequency (10-15 kHz) laser exposure (laser radiation power density 100 MW/cm2 and the distance from the target to the substrate 40 mm) for zirconium oxide ZrO2 ceramics doped with yttrium oxide 5 % Y2O3.