1. Engineering block copolymer materials for patterning ultra-low dimensions
- Author
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Guillaume Fleury, Daniele Mantione, Cian Cummins, Guillaume Pino, Laboratoire de Chimie des Polymères Organiques (LCPO), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut Polytechnique de Bordeaux-Ecole Nationale Supérieure de Chimie, de Biologie et de Physique (ENSCBP)-Université de Bordeaux (UB)-Institut de Chimie du CNRS (INC), Team 4 LCPO : Polymer Materials for Electronic, Energy, Information and Communication Technologies, Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut Polytechnique de Bordeaux-Ecole Nationale Supérieure de Chimie, de Biologie et de Physique (ENSCBP)-Université de Bordeaux (UB)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut Polytechnique de Bordeaux-Ecole Nationale Supérieure de Chimie, de Biologie et de Physique (ENSCBP)-Université de Bordeaux (UB)-Institut de Chimie du CNRS (INC), Centre de Recherche Paul Pascal (CRPP), Université de Bordeaux (UB)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), ANR-10-LABX-0042,AMADEus,Advanced Materials by Design(2010), European Project: MSCA-IF-2018 #838171,TEXTHIOL, Université de Bordeaux (UB)-Ecole Nationale Supérieure de Chimie, de Biologie et de Physique (ENSCBP)-Institut Polytechnique de Bordeaux-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), and Université de Bordeaux (UB)-Ecole Nationale Supérieure de Chimie, de Biologie et de Physique (ENSCBP)-Institut Polytechnique de Bordeaux-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université de Bordeaux (UB)-Ecole Nationale Supérieure de Chimie, de Biologie et de Physique (ENSCBP)-Institut Polytechnique de Bordeaux-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
- Subjects
Materials science ,Silicon ,Biomedical Engineering ,Energy Engineering and Power Technology ,chemistry.chemical_element ,Nanotechnology ,02 engineering and technology ,010402 general chemistry ,01 natural sciences ,Industrial and Manufacturing Engineering ,Nanomanufacturing ,Materials Chemistry ,Copolymer ,Chemical Engineering (miscellaneous) ,Thin film ,Scaling ,Lithography ,Process Chemistry and Technology ,[CHIM.MATE]Chemical Sciences/Material chemistry ,021001 nanoscience & nanotechnology ,0104 chemical sciences ,[CHIM.POLY]Chemical Sciences/Polymers ,Nanolithography ,chemistry ,Polymerization ,Chemistry (miscellaneous) ,0210 nano-technology - Abstract
International audience; The landscape of block copolymer (BCP) lithographic patterning has evolved significantly from the early days of the first generation BCP material, poly(styrene)-block-poly(methyl methacrylate) (PS-b-PMMA). The low Flory–Huggins interaction parameter (χ) of the workhorse material PS-b-PMMA prevents ultra-low dimensional scaling (
- Published
- 2020
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